大连理工大学超高真空磁控溅射镀膜机项目单一来源公告

根据《中华人民共和国政府采购法》等有关规定，现对大连理工大学超高真空磁控溅射镀膜机项目进行单*来源招标，欢迎合格的供应商前来投标。

项目名称：大连理工大学超高真空磁控溅射镀膜机项目

项目编号：******-*******

项目联系方式：

项目联系人：宋亮

项目联系电话：****-********

采购单位联系方式：

采购单位：大连理工大学

采购单位地址：中国大连高级经理学院*号楼大连理工大学采购与招标管理中心***室（大连市高新园区红凌路***号）

采购单位联系方式：宋亮；********@****.***.**

*、拟采购的货物或者服务的说明:

大连理工大学拟采购超高真空磁控溅射镀膜机，该设备主要用于加工**-**-** 薄膜，以便更好的来研究这种相变薄膜的各种性质；**-**-**薄膜在光学方面有及其良好的响应，并且由于其是*种相变材料，并且相变前后对光的折光性质有很大的变化，利用这种性质，可以做出各种可以调谐的光学元器件或者传感器。

*、采用单*来源采购方式的原因及相关说明:

大连理工大学纳米光学与生物传感实验室拟开展**-**-** 薄膜光学特性方面的研究，**-**-**薄膜在光学方面有及其良好的响应，并且由于其是*种相变材料，并且相变前后对光的折光性质有很大的变化，利用这种性质，我们可以做出各种可以调谐的光学元器件或者传感器。研究的意义为拓宽了**-**-** 薄膜的应用并且有望获得特性更加良好的光学元件。

基于该项目研究的内容和实验的要求，须购置*套超高真空磁控溅射镀膜机，该设备不仅要求整体性能稳定，设备应用成熟，并且须要达到主要指标就是真空度的要求以及溅射靶枪的个数。

该设备须要达到的技术指标及需要达到该指标的原因，如下：

性能指标：

1. 超高真空不锈钢主腔体，预留*****反射高能电子衍射仪接口，后续可按需升级；并且磁控溅射磁场和*****不会相互干扰；
2. 配置*个向上溅射共溅射靶枪，采用金属密封；强磁靶可做***厚磁性材料；
3. 靶枪可根据科研需求，配置在平衡，非平衡和磁性材料模式中工作；
4. 所有靶枪均采用稀土磁铁，磁铁和冷却水隔离；所有靶枪可以承受****烘烤和**-******真空；
5. 基片最高加热温度****，温控精度+/-**，加热均匀性+/-*.*%；
6. 样品台连续自动旋转速率*-** ***；
7. 基于*******软件的***** **-*计算机控制系统，***个单独密码保证工艺膜层和工艺安全性；
8. 沉积均匀性：优于+/-*.*% @ *" (*****)基片；极限真空：优于****-*****；
9. 设备应用于相变薄膜领域的案例证明

国内外同类实验设备情况：

国内同类实验设备腔体密封性能不能满足超高真空****-*****的要求；沉积均匀性也只有*%左右，也不能满足*.*%的要求。基片加热温度最高是***℃，拟购设备需要最高***℃加热；强磁靶枪不能做***厚磁性材料；没有预留*****接口；整体设备性能相对没有进口设备稳定可靠，在实验室相关研究领域也暂时没有成熟的应用。

国际上同类实验室设备*部分是向下溅射方向，基片在腔室下方，薄膜表面可能会被腔体内杂质污染；靶枪数量只有*套，加热温度最高***℃，并且没有预真空腔室****-****，使用上不方便，并且镀膜效相对较低。薄膜均匀性约*%左右。不能满足拟购设备要求。

另*部分同类产品薄膜表面可能会被腔体内杂质污染；最高加热温度****，极限真空在**-*****范围，沉积均匀性*%。不能满足拟购设备要求。

综上所述，只有美国***公司的超高真空磁控溅射镀膜机能够满足本项目的所有技术要求的需要，只能采用单*来源采购方式进行采购。

*、开标时间：****年**月**日 **:**

*、拟定的唯*供应商名称及其地址：

制造商：*** *************,***.代理商名称：重庆眺望科技有限公司地址：重庆市渝中区虎歇路**号升伟中环广场*号楼**-*室

*、其它补充事宜

*、预算金额

预算金额：***.* 万元（人民币）